当前印刷设计行业在国内，UV印刷的主要承印物是非吸收性材料。为此，开发了一种称为“逆向上光工艺”的初期版本，但当时，由于一些细节问题未能解决，如附着力，故没有真正推行。经过几年的完善，此项工艺已日臻成熟。以下介绍利用此技术进行的局部上光工艺。
逆向上光是相对于传统的局部上光而言的。过去，无论用何种上光方式进行局部上光，最后一道上光工序必定要采用局部上光版印刷，以实现局部图文的高反差效果，因此，上光与印刷设计的套印精度成为上光工艺的关键。
上光工艺的流程：
上光前必须先完成常规印刷，且确定油墨已彻底干燥或固化；然后，以连线或离线方式将设计稿上非高亮光部位以胶印方式印上透明的逆向墨；再连线，以满版方式在印刷面涂布UV光油并固化。
此时，光油与逆向上光墨接触区域产生内聚反应而形成小颗粒状墨膜，逆向上光区域则形成镜面。
显然，采用逆向上光工艺，同一印件上将同时存在高亮光与非高亮光效果。而且，因为非高亮光部位是胶印,套印精确，同时也保证了高亮光部分图文的精度。
这些都是在印刷中所要注意的技巧，上海印刷公司在印刷中也都要引起重视，从而得到更高质量的印刷品。 |
